Trust-7111N在曝光显影应用工艺
时间:2023-10-26 访问量:0
T-7111N 树脂推荐专用于感光显影抗蚀工艺,显影清晰无残留。能抵抗各类强酸蚀刻液及弱碱性侵蚀。无溶剂 100% 含量,可适用于印刷及喷涂工艺。干燥迅速,表面快,干爽不粘连。对各类金属、玻璃、陶瓷, 覆铜板都具有优异的附着力。UV固化后硬度,绝缘性,抗蚀刻性达到最佳状态即可进行蚀刻工艺。应用于金属标识,玻璃酸刻,阳极氧化,线路板蚀刻,电镀等加工时的保护功能。
该树脂详细理化参数如下:
Tg(℃) | 45 |
MW(GPC) | 3500 |
Elongation at Break(%) | 45 |
Colour, Gardner | 3 |
Acid value(mg·KOH/g) | max. 90 |
Viscosity at 60℃(mPa.s) | 15000 |
Specific Gravity | 1.12 |
Effective content | 100% |
该树脂与各类型的常规单体都具有混溶性,建议用低官能度或乙氧化单体为宜,以保证显影及退膜速度,作为丝网印刷油墨原料时建议搭配 PMA 丙二醇甲醚醋酸酯作为溶剂,可保证良好的溶解性,同时具有较低的气味。能和聚酯、环氧、聚氨酯、磷酸酯、等材料很好的相溶。也可以和 T-7112,T-7113 感光树脂搭配以适应配方调整的需要。搭配适量 T-7133 树脂应用可以提高感光油墨的耐化性,及耐溶剂性能。添加AM-330磷酸酯可提高各类素材的适用。