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电镀遮蔽UV树脂T-7111:高附着力与快速显影的创新解决方案

产品概述
T-7111是一款专为电镀遮蔽及抗蚀工艺设计的两官能度聚酯丙烯酸酯UV树脂。其独特的分子结构赋予产品优异的显影性能和耐化学腐蚀能力,适用于金属、玻璃、陶瓷等基材的表面保护。作为无溶剂型100%固含树脂,T-7111在UV固化前即可形成高硬度膜层(达2H),固化后进一步强化抗蚀刻性和绝缘性,成为电镀遮蔽工艺中的理想选择。
技术特性与性能优势
T-7111的核心竞争力体现在其快速显影与高耐受性上。通过优化聚酯链段与丙烯酸酯官能团的配比,该树脂在20秒内即可完成显影,显影后无残留,且能抵抗强酸蚀刻液(如电镀工艺中常见的硫酸、硝酸体系)及弱碱性溶液的侵蚀。其典型技术参数包括:玻璃化转变温度(Tg)65°C、断裂伸长率45%、酸值≤90 mgKOH/g,60℃下粘度为45,000 mPa·s,兼顾加工流动性及成膜稳定性。
在电镀遮蔽应用中,T-7111的附着力表现尤为突出。其对不锈钢、铝合金、玻璃等基材的初始附着力优异,UV固化后进一步形成致密交联网络,确保保护层在复杂化学环境中保持完整性。此外,高硬度特性(固化后达4H以上)有效避免加工过程中的机械损伤风险。
应用范围与工艺适配性
作为电镀遮蔽UV树脂的标杆产品,T-7111可适配多种加工方式:
1. 丝网印刷:适用于金属标识、精密电子元件等领域的图案化保护,支持5%氢氧化钠溶液3-5分钟快速退膜;
2. 喷涂工艺:针对3D曲面玻璃、异型金属工件等复杂结构,提供均匀涂层,颜料润湿性优异,支持定制化配色需求;
3. 复合工艺:与T-7112、T-7113等感光树脂协同使用,可调整显影速度及耐化性,满足电镀遮蔽工艺的多样化需求。
该树脂与常规单体(如乙氧化单体)及溶剂(PMA、醋酸丁酯等)均具有良好相容性,配方设计灵活性强。在需要提升耐溶剂性能的场景中,推荐搭配T-7133树脂使用,可显著增强保护层对电镀液中化学试剂的抵抗能力。
配方设计建议
1. 单体选择:建议采用低官能度单体或长链乙氧化单体,平衡显影速度与膜层韧性;
2. 溶剂体系:丝网印刷优先选用PMA溶剂,喷涂工艺推荐醋酸丁酯以加速挥发;
3. 功能增强:添加5-10%磷酸酯类附着力促进剂可进一步提升对难附着基材(如陶瓷)的粘结强度;
4. 固化优化:UV能量建议控制在800-1200 mJ/cm²范围内,确保完全交联的同时避免过度固化导致的脆性增加。
结论
T-7111电镀遮蔽UV树脂通过精准的官能度设计与工艺适配性优化,成功解决了传统保护材料显影残留、耐蚀性不足的痛点。其快速固化、高附着力及宽泛的化学耐受性,使其在精密电子元件电镀、装饰性金属表面处理等领域展现出显著优势。随着表面加工行业对环保与效率要求的持续提升,T-7111的创新技术路线将为电镀遮蔽工艺提供更可靠的技术支撑。